Page - 65 - in Technologien für das Lichtmanagement in organischen Leuchtdioden

3.3 Fotolithografie undNanostrukturenmit Hilfe fotolithografischer Verfahren hergestellt, wes- halb die in dieserArbeit verwendeten grundlegendenProzesse der Fotolitho- grafieerläutertwerdensollen.EsgibtverschiedeneLithografieverfahren,Pro- zessabläufeundStrukturierungsverfahren,die imFolgendennicht alle imDe- tail diskutiertwerdenkönnen.EineguteÜbersichtfindet sich in [200]wieder. 3.3.1 Prozessablauf Ein typischer Prozessablauf der Fotolithografie ist in Abbildung 3.3.1 dargestellt. Zunächst wird ein Substrat, bspw. über Spincoating, mit einem Fotolack beschichtet (Abb. 3.3.1a). Fotolacke bestehen im Wesentlichen aus drei Komponenten: einem Polymer, einer fotoaktiven Komponente und diversen Lösemitteln. Oftmals wird zwischen Fotolack und Substrat ein Haftvermittler aufgebracht, um eine Ablösung des Lackes bei späteren Prozessschrittenzuvermeiden.UmLösemittelrückständeausderLackschicht zuentfernenwirddasSubstratnachderBeschichtunghäufiggetempert (siehe Abb.3.3.1b). Die in denLack zuübertragendeStruktur ist auf einer Fotomaske abgebil- det.DasSubstratwird durch solch eineFotomaskemitUV-Strahlungbelich- tet7 (sieheAbb.3.3.1c).DabeiunterscheidetmanzwischenderKontaktbelich- tung (Fotomaske ist in Kontakt mit dem Substrat), der Proximitybelichtung (Maske ist ingeringemAbstandzumSubstrat) undderProjektionsbelichtung (Maskenbildwird über ein optisches Systemauf denLack abgebildet). Letz- terewurde imRahmen dieserArbeit nicht verwendet. Je nach verwendetem LackwerdendiebelichtetenSubstrateeinweiteresmalgetempert,umggf.die fotoaktiveKomponentedesLackesunddamitdieVernetzungderPolymerezu aktivieren. AnschließendwerdendiebelichtetenSubstrateentwickelt.Manunterschei- det zwischen positiven und negativenFotolacken. PositiveLackewerden bei derLackentwicklungandenbelichtetenStellenentfernt,beinegativenLacken 7Da es sich um UV-Strahlung handelt, spricht man auch von optischer Lithografie. Es gibt lithografische Verfahren, bei denen die Belichtung bspw. mit einem Elektronen- oder Ionenstrahl vorgenommen wird. Diese Elektronenstrahllithografie wurde im Rahmen dieser Arbeit nicht verwendet. Deshalb ist im FolgendenunterLithografie immerdieoptischeLithografiezuverstehen. 65