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5 InterneAuskopplung (a) (b) (c) (d) (e) (f) Abb.5.1.1:Übersicht über denHerstellungsprozess der indieserArbeit entwickeltenMgF2- Mikrosäulen. (a) Basis ist ein mit einem Fotolack beschichtetes ITO-Substrat. (b) In den Fotolack werden die Säulenstrukturen fotolithografisch belichtet und entwickelt. (c) Mittels nasschemischem Ätzen wird das ITO an den entsprechendenStellen bis auf dasGlas (d) geätzt. (e)MgF2 wird aufgedampft. (f) Per Lift-Offwird der Lack entfernt, dieMgF2-Mikrosäulen sind nun in dem ITOintegriert. 102