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6.1 Herstellungsphärisch-texturierterOLEDs (a) (b) Abb.6.1.3:REM-Aufnahmeneinesmit einemFIBangefertigtenQuerschnitts. (a)Monolage mitaufgesputtertemITOundOLED-Stack.Esistzuerkennen,dassdieSchichten nicht durchgängig sind. (b) Mit SU-8 gefüllte Monolage mit aufgesputtertem ITO und OLED-Stack. Durch das „Auffüllen” der Zwischenbereiche sind die Schichtendurchgängig. thermisch vernetzt. Um eventuelle unvernetzte Anteile dieser Lackschicht zu entfernen wurde diese noch entwickelt. SU-8 eignet sich insbesondere wegen seines Brechungsindex von nSU-8≈1,55 [245] als Füllmaterial, womit eine relativ gute Anpassung des optischen Brechungsindex an das Glassubstrat unddieSiO2-Mikropartikel gegeben ist.Weiterhin zeichnet sich SU-8 durch seine chemische Stabilität im vernetzten Zustand aus, was die Flüssigprozessierung einerWOLEDunddendamit verbundenenEinsatz von Lösemitteln ermöglicht. In Abbildung 6.1.3b ist der Querschnitt einer fertig prozessierten WOLED zu sehen. Es ist zu erkennen, dass die Schichten, insbesondere die ITO-Anode (unterste, helle Schicht), durchgängig sind. Weiterhin ist zu erkennen, dass sichdasSU-8nicht auf denPartikeln absetzt, sondern lediglichdieZwischenräumefüllt. Durch den Einsatz von SU-8 ergeben sich allerdings Probleme bei der Prozessierung der ITO-Anode. ITO muss nach dem Sputterprozess für mehrere Tage bei ca. 500°C an Luft getempert werden. In Abbildung 6.1.4 ist die Transmission und der Flächenwiderstand einer 150nm ITO- Schicht auf einem Glassubstrat in Abhängigkeit der Dauer der Temperung dargestellt. Es ist zu erkennen, dass einfach gesputtertes ITO eine geringe 139