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3 MethodenundMaterialien 3.2 OLED-Herstellung ImWesentlichenwird zwischen zwei grundlegendenVerfahren zur Herstel- lungvonOLEDsunterschieden.BauteilewelcheauskleinenMolekülen (ver- gleicheAbschnitt2.1.6)bestehen,werdenunter(Hoch-)Vakuumaufgedampft währendPolymer-OLEDshingegennormalerweiseflüssigprozessiertwerden. Im Rahmen dieser Arbeit wurden ausschließlich solche flüssigprozessierte OLEDsaufPolymerbasishergestellt. 3.2.1 ProzessketteundverwendetesLayout Für diese Arbeit wurden zwei grundlegend unterschiedliche Device- Strukturen verwendet. Zum einen wurden OLEDs auf Basis von Indium- zinnoxid (ITO)Anoden hergestellt, zum anderenwurden ITO-freie Bauteile mitPolymeroderPolymer-Metall-Hybridanoden,prozessiert. ITO-OLEDs In Abbildung 3.2.1 sind die Prozessschritte zur Herstellung der in dieser Arbeit verwendeten ITO-basierten OLEDs dargestellt. Ein 1mm dickes Borosilikatglas, welchesmit 120nm ITObeschichtet ist, wurde als Substrat verwendet. Die Substrate wurden auf eine Größe von 25mmx25mm geschnitten. Das ITO beschichtete Substrat wurde fotolithografisch mit einemanschließendennasschemischenÄtzprozess (vergleicheAbschnitt 3.3) strukturiert, so dass insgesamt 8 ITO-Streifen auf dem Substrat verbleiben (sieheAbbildung3.2.1a).DieSubstratewurdennacheinanderzuerst inAceton unddann in Isopropanol für jeweils10min ineinemUltraschallbadgereinigt. AnschließendwurdendieSubstrate ineinemPlasmaofen für2minmit einem Sauerstoffplasma behandelt, um Rückstände des Isopropanols zu entfernen unddieOberflächehydrophil zumachen.DieSauerstoffbehandlungvon ITO erhöht außerdem die Austrittsarbeit von ITO [179–181], was im späteren Bauteil die Lochinjektion begünstigt (vergleiche Abschnitt 2.1.3). Nach der Reinigung der Substrate wurden alle folgenden Schritte in einer Glovebox unterStickstoffatmosphäredurchgeführt. 54