Seite - 67 - in Technologien für das Lichtmanagement in organischen Leuchtdioden

3.3 Fotolithografie (a) °C (b) (c) Positver Fotolack Negativer Fotolack (d) Abb.3.3.1:TypischeProzesskette deroptischenLithografie. (a)EinSubstratwirdmit einem Fotolack beschichtet. (b) Um die Lösemittel aus der Lackschicht zu entfernen wirddasSubstratgetempert. (c)DasSubstratwirddurcheineFotomaskemitUV- Licht belichtet. (d) Das Substrat wird entwickelt. Man unterscheidet zwischen positiven und negativen Fotolacken. Positive Lacke: Belichtete Stellen werden gelöst.NegativeLacke:UnbelichteteStellenwerdengelöst. 67