Seite - 116 - in Technologien für das Lichtmanagement in organischen Leuchtdioden

5 InterneAuskopplung E1 θ2 E2 k2 Λ k1 Intensität Fotolack Substrat Schwelle θ1 Abb.5.2.3:Entstehung der Gitterstruktur. Die unter einem Winkel einfallenden ebenen Wellen interferieren. Es wird im Lack eine sinusoidale Intensitätsverteilung abgebildet. An den Stellen wo die Polymerisationsschwelle des Fotolacks überschrittenwird,wirddie fotoaktiveKomponentedesLacksaktiviert.Esbildet sicheineperiodischeStrukturmitderGitterperiodeΛaus. Teilstrahlen gleich sind5 (θ1 =−θ2 = θ) und die Teilstrahlen die selbe IntensitätA besitzen. Die Teilstrahlen lassen sich als ebeneWelle wie folgt beschreiben: E1(x, t)=Acos(k1 ·x−ωt), (5.2.4) E2(x, t)=Acos(k2 ·x−ωt+ ϕ). (5.2.5) Dabei entspricht ϕ der Phasenverschiebung der beidenTeilstrahlen.Die in Abbildung5.2.3dargestellte Intensitätsverteilung I imLackergibt sichdurch zeitlicheMittelung(stationärerFall)beiÜberlagerungderbeidenTeilstrahlen wie folgt: I= 〈 |(E1(x, t)+E2(x, t))|2 〉 T (5.2.6) = 〈 4A2cos2 ( k0xsinθ− ϕ2 ) ·cos2 ( ϕ 2 −ωt )〉 T (5.2.7) 5Für den Fall θ1 =−θ2 ergeben sich prismatische Interferenzmuster, welche in dieser Arbeit nicht genutzt wurdenund imFolgendendahernichtbetrachtetwerden. 116