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4.1 HerstellungundCharakterisierungvonMLAs genannten g-,h- und i-Linien4 bezeichnet werden. Insbesondere imBereich um die i-Linie emittieren Quecksilberdampflampen relativ breitbandig, so dass auch Wellenlängen unterhalb von 350nm emittiert werden. Dieser SpektralbereichwirdvomFotolackSU-8besonders starkabsorbiert und führt daher zu einer verstärkten Aktivierung der fotoaktiven Komponente. Bei dickenLackschichtenbzw. hohenStrukturenwerdendaher die substratnahen BereichewenigerunddieoberenBereichederLackschichtverstärktbelichtet. Eine homogene Aktivierung der fotoaktiven Komponente und damit eine anschließendehomogenePolymerisationdurchdie gesamteSchicht ist daher nur sehr schwer möglich. Es bilden sich pilz- bzw. T-förmige Strukturen aus,man spricht vomsogenanntenT-Topping [200],welches auchbei den in dieserArbeithergestelltenSäulenstrukturfürdieMLA-Fabrikationbeobachtet wurde. In Abb. 4.1.3a und 4.1.3b sind beispielhafte REM-Aufnahmen von SäulenstrukturenmitT-Toppingzusehen. Für den in dieser Arbeit zur Herstellung vonMLAs entwickelten Prozess ist es nötig, möglichst geringe Abstände zwischen den Säulen zu haben, um eine hohe Packungsdichte des späteren MLAs zu erhalten. Außerdem ist eineAbformungdurchPDMS-Stempel der pilzförmigenStrukturen, bzw. die Stempelherstellung nicht möglich, da dabei die gesamte Struktur vom Substrat abgezogen würde. Aus diesem Grund wurde der in Abschnitt 3.3 beschriebene Fotolithografie-Prozess zur Herstellung der Säulenstrukturen modifiziert. Zwischen Quecksilberdampflampe und Maske wurde ein UV- Filter (BG-285, Schott) gebracht, um die spektralenAnteile unterhalb der i- Linie herauszufiltern. Durch den Einsatz des Filters wurde die notwendige Belichtungszeit zwar deutlich erhöht, allerdings konnte durch das geänderte SpektrumeinehomogeneAktivierungder fotoaktivenKomponentedesLacks unddamit einhergehendeinegleichmäßigePolymerisationdurchdiegesamte Lackschichterreichtwerden. InAbbildung4.1.3cund4.1.3dsindbeispielhaft zwei REM-Aufnahmen von Säulenstrukturen zu sehen die mit demEinsatz desUV-Filter, d.h. ohneT-Topping,hergestelltwurden. 4g-Linie:λ≈436nm; h-Linie:λ≈405nm; i-Linie:λ≈365nm 5TransmissiondesBG-28-Filters:Tλ=320nm=0%;Tλ=350nm=28%;Tλ=370nm=50% 85